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鋁基覆銅箔層壓板是解決散熱問(wèn)題的有效方法之一，但高導(dǎo)熱鋁基覆銅板對(duì)絕緣介質(zhì)膜的組成材料提出了更高的要求，即純度高、無(wú)溶劑和無(wú)揮發(fā)性物質(zhì)、韌性好、耐高溫等要求。

鐘淵生產(chǎn)APICAL的制造技術(shù)是保密的，相關(guān)專利技術(shù)從未公布，其制造方法步驟和Kapton的基本相同，原料單體都是均苯四甲酸二酐和二氨基二苯醚，生產(chǎn)方法為二步法：**步，在高極性溶劑中合成聚酰胺酸樹(shù)脂溶液(縮聚反應(yīng))；第二步，將聚酰胺酸樹(shù)脂溶液流涎，加熱揮發(fā)溶劑，亞胺化成PI薄膜

日本寧部興產(chǎn)工業(yè)公司在上世紀(jì)80年代初研制成功一種新型線性聚酰亞胺即聯(lián)苯型薄膜，包括Upilex R、Upilex S和Upilex C型系列薄膜，打破了“Kapton”為代表的以PMDA與DDE為原料制造聚酰亞胺薄膜獨(dú)占市場(chǎng)20年的局面 ．二酐組分是聯(lián)苯四甲酸二酐，二胺組分是二氨基二苯醚或?qū)Ρ蕉?，根?jù)二胺結(jié)構(gòu)的不同，把與二氨基苯醚結(jié)合的定位R型，與對(duì)苯二胺結(jié)合的定位

聚酰亞胺薄膜具有優(yōu)異的耐熱穩(wěn)定性，可滿足光電器件加工過(guò)程中電極薄膜沉積和退火處理等高溫制程的要求，因此主要應(yīng)用于柔性印刷線路板(FPC)、電纜瓷漆、電機(jī)絕緣、太陽(yáng)能電池板、衛(wèi)星外包覆隔熱膜、模制零件、耐高溫涂料、耐高溫織物、耐高溫粘合劑等領(lǐng)域。

自1950年起美國(guó)杜邦公司開(kāi)始了耐高溫聚合物的研究，1962年芳香族聚酰亞胺開(kāi)始在布法羅試生產(chǎn)，取名為“H”型薄膜。1965年在俄亥俄州的塞克爾維尼建廠開(kāi)始大規(guī)模生產(chǎn)，并登記商品名為“Kapton”，“Kapton”薄膜有3種類型：H型、F型、V型，到1980年，生產(chǎn)有3種型號(hào)20多種規(guī)格(7.5～125 um)，幅寬l 500 mm

在聚酯薄膜表面通過(guò)在線涂布（In-line coating）處理使得石墨烯基防靜電涂層均勻地鋪展在聚酯薄膜表面，為了實(shí)現(xiàn)聚酯薄膜具優(yōu)異的防靜電性能、高透明性、良好的收卷性、良好的后續(xù)加工性等性能

其中，KAPTON作為一種極好的耐高溫柔性材料，具備優(yōu)良的力學(xué)、介電、耐輻射和耐溶劑等性能，因此成為目前柔性襯底材料的**。截止目前，科研人員已經(jīng)成功在KAPTON襯底上生長(zhǎng)了一些化合物半導(dǎo)體薄膜，為之后制作柔性光電子器件鋪平了道路。

我國(guó)的聚酰亞胺薄膜經(jīng)過(guò)幾十年的艱苦努力,已取得了一定的發(fā)展,生產(chǎn)廠家已發(fā)展到幾十家,但生產(chǎn)規(guī)模大都比較小, 且品種單一, 質(zhì)量水平低下,以致國(guó)內(nèi)目前大量使用的電子用聚酰亞胺薄膜、耐電暈聚酰亞胺薄膜以及高強(qiáng)度聚酰亞胺薄膜等高端產(chǎn)品仍不得不依賴進(jìn)口。

PEI聚醚酰亞胺材料的應(yīng)用

聚酰亞胺薄膜具有較好的柔性，并且與常用的鈦、鉻等粘附層具有很好的結(jié)合力，因此，聚酰亞胺常被用作金屬電極的柔性基底。由于不同廠家生產(chǎn)聚酰亞胺光刻膠所用的材料和工藝各不相同，不同型號(hào)的聚酰亞胺光刻膠制備的聚酰亞胺薄膜的性能也不相同。