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聚酰亞胺是分子主鏈中含有酰亞胺結(jié)構(gòu)的有機(jī)高分子，具有優(yōu)良的力學(xué)性能、熱穩(wěn)定性、耐化學(xué)腐蝕性及低介電常數(shù)，被廣泛應(yīng)用于航天、航空、工程材料加工及微電子等領(lǐng)域

但我國(guó)聚酰亞胺復(fù)合材料的應(yīng)用非常有限，僅有**代聚酰亞胺復(fù)合材料小批量應(yīng)用于發(fā)動(dòng)機(jī)外涵道，遠(yuǎn)未形成完整的材料與工藝技術(shù)體系。我國(guó)聚酰亞胺復(fù)合材料尚需按代次系列化發(fā)展，以滿足航空發(fā)動(dòng)機(jī)的發(fā)展需求，并應(yīng)重點(diǎn)關(guān)注以下幾方面的研究：熱固性聚酰亞胺關(guān)鍵單體合成制備

鑒于150℃潛油電機(jī)的運(yùn)轉(zhuǎn)環(huán)境再加上電機(jī)本身溫度上升，因此在絕緣材料的選用上，主要選用聚酰亞胺及其復(fù)合制品，其耐熱指數(shù)在180℃以上，電機(jī)一次絕緣處理用的材料為二氧化雙環(huán)戊二烯與雙酚A混合物為基體的絕緣漆

聚酰亞胺(polyimide，PI)，因其具有高的熱穩(wěn)定性、良好的機(jī)械特性以及優(yōu)越的電氣性能而被廣泛的應(yīng)用于航空、航天、微電子、高鐵等領(lǐng)域。但是聚酰亞胺薄膜在高頻脈沖電壓下，其壽命大大縮短，主要是由于電機(jī)繞組端部過(guò)電壓及其造成的強(qiáng)烈局部放電（partial discharge，PD）將加劇電機(jī)絕緣的損傷速率，致使絕緣擊穿

鐘淵生產(chǎn)APICAL的制造技術(shù)是保密的，相關(guān)專利技術(shù)從未公布，其制造方法步驟和Kapton的基本相同，原料單體都是均苯四甲酸二酐和二氨基二苯醚，生產(chǎn)方法為二步法：**步，在高極性溶劑中合成聚酰胺酸樹(shù)脂溶液(縮聚反應(yīng))；第二步，將聚酰胺酸樹(shù)脂溶液流涎，加熱揮發(fā)溶劑，亞胺化成PI薄膜

日本寧部興產(chǎn)工業(yè)公司在上世紀(jì)80年代初研制成功一種新型線性聚酰亞胺即聯(lián)苯型薄膜，包括Upilex R、Upilex S和Upilex C型系列薄膜，打破了“Kapton”為代表的以PMDA與DDE為原料制造聚酰亞胺薄膜獨(dú)占市場(chǎng)20年的局面 ．二酐組分是聯(lián)苯四甲酸二酐，二胺組分是二氨基二苯醚或?qū)Ρ蕉?，根?jù)二胺結(jié)構(gòu)的不同，把與二氨基苯醚結(jié)合的定位R型，與對(duì)苯二胺結(jié)合的定位

聚酰亞胺薄膜具有優(yōu)異的耐熱穩(wěn)定性，可滿足光電器件加工過(guò)程中電極薄膜沉積和退火處理等高溫制程的要求，因此主要應(yīng)用于柔性印刷線路板(FPC)、電纜瓷漆、電機(jī)絕緣、太陽(yáng)能電池板、衛(wèi)星外包覆隔熱膜、模制零件、耐高溫涂料、耐高溫織物、耐高溫粘合劑等領(lǐng)域。

自1950年起美國(guó)杜邦公司開(kāi)始了耐高溫聚合物的研究，1962年芳香族聚酰亞胺開(kāi)始在布法羅試生產(chǎn)，取名為“H”型薄膜。1965年在俄亥俄州的塞克爾維尼建廠開(kāi)始大規(guī)模生產(chǎn)，并登記商品名為“Kapton”，“Kapton”薄膜有3種類型：H型、F型、V型，到1980年，生產(chǎn)有3種型號(hào)20多種規(guī)格(7.5～125 um)，幅寬l 500 mm

我國(guó)的聚酰亞胺薄膜經(jīng)過(guò)幾十年的艱苦努力,已取得了一定的發(fā)展,生產(chǎn)廠家已發(fā)展到幾十家,但生產(chǎn)規(guī)模大都比較小, 且品種單一, 質(zhì)量水平低下,以致國(guó)內(nèi)目前大量使用的電子用聚酰亞胺薄膜、耐電暈聚酰亞胺薄膜以及高強(qiáng)度聚酰亞胺薄膜等高端產(chǎn)品仍不得不依賴進(jìn)口。

聚酰亞胺薄膜具有較好的柔性，并且與常用的鈦、鉻等粘附層具有很好的結(jié)合力，因此，聚酰亞胺常被用作金屬電極的柔性基底。由于不同廠家生產(chǎn)聚酰亞胺光刻膠所用的材料和工藝各不相同，不同型號(hào)的聚酰亞胺光刻膠制備的聚酰亞胺薄膜的性能也不相同。